重磅利好，中国在雄安新区要建造光刻厂了，好像是说荷兰的光刻机5米光源做到3纳米，这小型化光刻机难度太高我们做不到，清华的团队逆向研究，直接做光刻厂，用1000个光源跑5000米，然后挑出稳定的1纳米～28纳米来刻芯片，从而达到芯片的全突破。荷兰弄的是一个小喷头，且喷出来的就是5纳米。我们弄的是 ...展开
