光刻机光刻机：张江高科、东方嘉盛、冠石科技事件1：10月27日，上海微电子装备(集团)发明专利申请公布：光刻投影物镜及光刻机。事件2：前台积电副总最新表示，中芯国际和华为可以使用现有的旧机器来制造更复杂的芯片，通过利用已经在使用的ASML设备，中芯国际应该能推进到下一代5纳米工艺。
