发布了头条文章：《重大突破！国产光刻机真的要来了！》 证券日报刊文指出，近日，有消息称，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。此前，国家知识产权局公布了一项华为新的专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”，在极紫外线光刻机 ...展开 红周刊投服平台 重大突破！国产光刻机真的要来了！ 🔗 网页链接
