日前，新华网罕见的发布了一篇《国产光刻机如何突围？》的文章，这则消息透露，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而此前华为的一项最新专利，在极紫外光刻机核心技术上取得突破性进展。在近两年来，国产光刻机一直在低调的发 ...展开
