【10nm光刻技术！英特尔继续逼近硅原子极限】Intel今年已经开始量产14nm工艺，下一代工艺将是10nm，Intel原本计划在2015年底开始投产10nm工艺。随着半导体工艺进入10nm内，新一代EUV光刻设备也愈加重要，这还要看荷兰A...全文链接→🔗 网页链接
